Aiheeseen liittyvät haut: Tantaali Tavoite Sputterointikoneet | High Precision Tantaali tavoitteet | Tantaali sputterointikohde | Tantaali Target
Product List

Tantaali Target

Kuvaus
Tantaali tavoitteita, joka tunnetaan myös nimellä tantaali katodipölyynnystä tavoitteita, tarjota johdonmukainen ja toistettavissa prosessi suorituskyvyn korkea paksuus yhdenmukaisuus. Poistaminen tekstuuri ryhmittelyä valmistuksen aikana tuottaa yhtenäinen mikrorakenne, joka ansiosta Parannettu varhaisiin vakauden ja johdonmukainen-kautta-elämän pauke suorituskykyä.
Saat tantaali tavoite, keskitymme tarjoamaan asiakkaillemme korkea puhtaudeksi vaihtelevat 3N 5N, hieno ja yhtenäinen raekoko, poistaminen vahva rakenne juovia, ja varhainen tavoite elämän koko vakautta.
Meidän tantaali tavoitteet "metallisten epäpuhtauksien ja kaasumaisia ​​epäpuhtauksia on mitattu tunnetuilla eri puolilla maailmaa.
Lisäksi tarjoamme myös ohjelman kierrätys takaisin romun tavoitteet.

Hakemus
Mukana erinomainen korroosionkestävyys, korkean lämpötilan lujuus ja hyvä biologinen yhteensopivuus, tantaali tavoite käytetään paljon ohut sovelluksia, kuten diffuusiosulku materiaali, muistilaitteet, hilaelektrodin MOSFET laitteissa, suojaava pinnoite tulostuspää laitteiden ja este metallia kupari johdot laite.

Kemiallinen koostumus tantaali Target
TaNb20Ta2.5WTa10W
Kemia ppm
KuvausChief komponenttiEpäpuhtaudet enintään
Ta HuomFe SiNiWMoTiOCHN
TA1Loput300403020404020150401520
TA2Loput800100100502002005020010015100
TaNb3Loput100100502002005020010015100
Loput170000- 230000100100502002005020010015100
Loput400503020300006020150501560
Loput4005030201100006020150501560
Paketti ja Kuljetus

Pakkaamme tantaali tavoite vanerin tapauksessa ja lähettää ne meressä tai ilmassa.

Perustettu vuonna 2008, Zhuzhou Tongyi Tulenkestävät Metal Co, Ltd on ammattimainen valmistaja ja toimittaja tantaali tavoite (tantaali katodipölyynnystä tavoitteita) Kiinassa. Jos tämä tuote kiinnostaa sinua, ota meihin yhteyttä.