Semiconductor implantation ionique

L'implantation ionique, similaire à procédé de revêtement, est une approche de haute technologie pour la modification des propriétés de surface des matériaux. Mais il ne nécessite pas l'ajout d'une couche sur la surface. L'implantation ionique est développé à l'origine pour des applications de semi-conducteurs, et il utilise des faisceaux d'ions hautement énergétiques (atomes chargés positivement) pour modifier la structure de surface et de chimie des matériaux à basse température. Certes, ce processus ne nuise pas les dimensions de composant ou les propriétés des matériaux en vrac.

1. Doté d'une haute conductivité thermique, résistance des matériaux, résistance à la corrosion et la pureté absolue, nos alliages de tungstène et alliages de molybdène fonctionnent bien, veiller à ce que les ions sont générés de manière efficace et sans impurities.
2. Matériel d'implantation d'ions, les alliages de tungstène et alliages de molybdène sont largement utilisés pour les chambres de coupure, des filaments, des cathodes et des autres pièces de rechange.