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Tantale cible

Description
Cibles de tantale, également connu en tant que cibles de pulvérisation de tantale, offrent des performances de processus cohérent et reproductible avec une grande uniformité d'épaisseur. L'élimination de la texture des bandes lors de la fabrication produit une microstructure uniforme, ce qui offre une meilleure stabilité en début de vie et la performance de pulvérisation uniforme-travers-vie.
Pour la cible de tantale, nous nous concentrons sur d'offrir à nos clients avec des puretés élevées allant de 3N à 5N, granulométrie fine et uniforme, l'élimination des fortes bandes de texture, et la cible début stabilité de la taille de la vie.
Impuretés métalliques de nos objectifs de tantale et impuretés gazeuses ont été mesurées par les autorités connus dans le monde entier.
En outre, nous offrons également des objectifs de programme de recyclage des déchets récupérés.

Application
Doté d'une excellente résistance à la corrosion, résistance à la température élevée et une bonne biocompatibilité, la cible de tantale est utilisé pour beaucoup de fines applications de film, tel qu'un matériau formant barrière de diffusion, des dispositifs de mémoire, une électrode de grille des dispositifs MOSFET, un revêtement protecteur sur des dispositifs de tête d'impression et le métal de barrière pour dispositif de câblage de cuivre.

Composition chimique de Tantale cible
TaNb20Ta2.5WTa10W
Chimie ppm
DescriptionComposante chefLes impuretés maximale
TaNbFe SiNiWMoTiOCHN
Ta1 Reste300403020404020150401520
Ta2 Reste800100100502002005020010015100
TaNb3 Reste100100502002005020010015100
Reste170000- 230000100100502002005020010015100
Reste400503020300006020150501560
Reste4005030201100006020150501560
Emballage et transport

Nous emballons cible de tantale en cas de contre-plaqué et les envoyer par mer ou par air.

Créé en 2008, Lantytk® Corp réfractaire Metal Co., Ltd est un fabricant et fournisseur professionnel de la cible de tantale (cibles de pulvérisation de tantale) en Chine. Si ce produit vous intéresse, contactez-nous.