Pencarian terkait: Tantalum Sasaran Untuk Sputtering | Tinggi Target Presisi Tantalum | Tantalum Sputtering Sasaran | Tantalum Sasaran
Daftar Produk

Tantalum Sasaran

Deskripsi
Target tantalum, juga dikenal sebagai target tantalum sputtering, memberikan kinerja proses yang konsisten dan direproduksi dengan ketebalan tinggi keseragaman. Penghapusan tekstur banding selama fabrikasi menghasilkan mikro seragam, yang memberikan peningkatan stabilitas awal kehidupan dan kinerja menggerutu konsisten-melalui-hidup.
Untuk target tantalum, kami fokus pada menawarkan pelanggan kami dengan kemurnian tinggi mulai dari 3N ke 5N, ukuran butir halus dan seragam, penghapusan tekstur banding yang kuat, dan sasaran awal stabilitas ukuran hidup.
Kotoran logam tantalum kami target 'dan kotoran gas telah diukur oleh otoritas yang dikenal di seluruh dunia.
Selain itu, kami juga menawarkan program daur ulang direklamasi target memo.

Aplikasi
Menampilkan ketahanan korosi yang sangat baik, kekuatan suhu tinggi dan biokompatibilitas yang baik, sasaran tantalum digunakan untuk banyak aplikasi film tipis seperti bahan penghalang difusi, perangkat memori, elektroda gerbang di perangkat MOSFET, lapisan pelindung pada perangkat print head dan logam penghalang untuk perangkat kabel tembaga.

Komposisi kimia dari Tantalum Sasaran
TaNb20Ta2.5WTa10W
Kimia ppm
DeskripsiKomponen utamaKotoran maksimum
TaNbFeSiNiWMoTi HAICHN
TA1 Sisa300403020404020150401520
TA2 Sisa800100100502002005020010015100
TaNb3 Sisa100100502002005020010015100
Sisa170000- 230000100100502002005020010015100
Sisa400503020300006020150501560
Sisa4005030201100006020150501560
Paket dan Transportasi

Kami berkemas Target tantalum dalam kasus kayu lapis dan mengirimkannya melalui laut atau udara.

Didirikan pada tahun 2008, Zhuzhou Tongyi Refractory Metal Co, Ltd adalah produsen profesional dan pemasok target tantalum (target tantalum sputtering) di Cina. Jika produk ini minat Anda, hubungi kami.