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Semiconductor impiantazione ionica

Semiconductor impiantazione ionica

Descrizione

Impiantazione ionica, simile al processo di rivestimento, è un approccio alta tecnologia per modificare le proprietà di superficie dei materiali. Ma non comporta l'aggiunta di uno strato sulla superficie. Impiantazione ionica è originariamente sviluppato per applicazioni di semiconduttori, ed utilizza fasci altamente energetici di ioni (atomi caricati positivamente) per modificare la struttura superficiale e chimica dei materiali a bassa temperatura. Certamente, tale processo non alterino le dimensioni dei componenti o caratteristiche dei materiali alla rinfusa.

Applicazione

1. Con la sua alta conducibilità termica, resistenza del materiale, resistenza alla corrosione e la purezza assoluta, le nostre leghe di tungsteno e leghe di molibdeno funzionano bene, in modo che gli ioni sono generati in modo efficiente e libero da impurities.
2. Nelle apparecchiature impiantazione ionica, leghe di tungsteno e leghe di molibdeno sono ampiamente usati per camere d'arco, filamenti, catodi e altri pezzi di ricambio.

Principio
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