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Elenco prodotti

Tantalio target

Descrizione
Obiettivi tantalio, noto anche come bersagli tantalio sputtering, offrono prestazioni processo coerente e riproducibile con uniformità alto spessore. L'eliminazione di struttura banding durante la fabbricazione produce una microstruttura uniforme, che offre una migliore stabilità prime fasi di vita e le prestazioni sputtering costante-attraverso-vita.
Per bersaglio tantalio, ci concentriamo su di offrire ai nostri clienti di alta purezze che vanno da 3N a 5N, granulometria fine ed uniforme, l'eliminazione di forte struttura banding, e primo obiettivo la stabilità a grandezza naturale.
Impurità metalliche nostri obiettivi tantalio 'e impurità gassose sono state misurate dalle autorità noti in tutto il mondo.
Inoltre, offriamo anche il programma di riciclaggio dei rottami bonificati obiettivi.

Applicazione
Caratterizzato eccellente resistenza alla corrosione, ad alta resistenza di temperatura e buona biocompatibilità, porta tantalio è utilizzato per molte applicazioni a film sottile, come un materiale di barriera di diffusione, dispositivi di memoria, un elettrodo di gate in dispositivi MOSFET, un rivestimento protettivo su dispositivi testina di stampa e barriera metallica per dispositivo cavi in ​​rame.

Composizione chimica del tantalio target
TaNb20Ta2.5WTa10W
Chimica ppm
DescrizioneComponente principaleLe impurità massimo
TaNbFeSiNiWMomentoTiOCHN
Ta1 Resto300403020404020150401520
TA2 Resto800100100502002005020010015100
TaNb3 Resto100100502002005020010015100
Resto170000- 230000100100502002005020010015100
Resto400503020300006020150501560
Resto4005030201100006020150501560
Pacchetto e trasporti

Imballiamo bersaglio tantalio in caso di compensato e li trasmetteremo da mare o aereo.

Fondata nel 2008, Zhuzhou Tongyi refrattario Metal Co., Ltd. è un produttore professionista e fornitore di bersaglio tantalio (tantalio obiettivi sputtering) in Cina. Se questo prodotto ti interessa, non esitate a contattarci.