Verwante zoekopdrachten: Tantaal Target Voor Sputteren | High Precision Tantaal Doelen | Tantaal sputtertrefplaat | Tantaal Target
product List

Tantaal Target

Beschrijving
Tantalum doelen, ook bekend als tantaal sputtering targets, consistente en reproduceerbare procesprestaties met grote dikte uniformiteit. De eliminatie van textuur strepen tijdens de fabricage zorgt voor een uniforme microstructuur, die levert verbeterde stabiliteit vroege leven en consistente-through-life sputter prestaties.
Voor tantaal doel, richten we ons op om onze klanten te bieden met een hoge zuiverheid, variërend van 3N tot 5N, fijne en uniforme korrelgrootte, eliminatie van sterke textuur strepen, en de vroege doel levensgrote stabiliteit.
Onze tantaal doelen "metallische verontreinigingen en gasvormige verontreinigingen zijn gemeten door bekende instanties wereldwijd.
Bovendien bieden wij ook programma van recycling teruggewonnen schroot doelen.

Toepassing
Met uitstekende corrosieweerstand, hoge temperatuur sterkte en goede biocompatibiliteit, wordt tantaaldoel gebruikt voor veel dunne film toepassingen als diffusiebarrière materiaal, geheugeninrichtingen, een gate-elektrode in MOSFET, een beschermende bekleding op printkop apparaten en barrier metaal koperen bedrading apparaat.

Chemische samenstelling van tantaal Target
TaNb20Ta2.5WTa10W
Chemie ppm
BeschrijvingHoofdcomponentOnzuiverheden maximaal
TaNbFe SiNiWMoTi OCHN
TA1 Rest300403020404020150401520
TA2 Rest800100100502002005020010015100
TaNb3 Rest100100502002005020010015100
Rest170000- 230000100100502002005020010015100
Rest400503020300006020150501560
Rest4005030201100006020150501560
Verpakking en transport

Wij verpakken tantaal doel in multiplex geval en stuur ze door de zee of door de lucht.

Opgericht in 2008, Zhuzhou Tongyi Vuurvast Metal Co, Ltd is een professionele producent en leverancier van tantaal doel (tantaal sputtertrefplaten) in China. Als dit product u interesseert, neem dan contact met ons op.