Semiconductor Ion Implantação

Implantação iónica, semelhante ao processo de revestimento, é uma abordagem de alta tecnologia para modificar as propriedades de superfície de materiais. Mas isso não envolve a adição de uma camada na superfície. Implantação de íons é originalmente desenvolvido para aplicações de semicondutores, e ele usa feixes de íons altamente energéticos (átomos com carga positiva) para modificar a estrutura de superfície e química dos materiais a baixa temperatura. Certamente, tal processo não afecta negativamente as dimensões de componentes ou propriedades dos materiais a granel.

1. Com alta condutividade térmica, resistência do material, resistência à corrosão e pureza absoluta, nossas ligas de tungstênio e molibdênio ligas funcionar bem, garantindo que os íons são gerados de forma eficiente e livre de impurities.
2. No de implantação iónica, ligas de tungstênio e molibdênio ligas são amplamente utilizados para câmaras de arco, filamentos, catodos e outras peças de reposição.