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Lista De Produtos

Tântalo Alvo

Descrição
Alvos de tântalo, também conhecidos como alvos de tântalo pulverização catódica, proporcionar um desempenho processo consistente e reproduzível com uniformidade de alta espessura. A eliminação da textura bandas durante a fabricação produz uma microestrutura uniforme, o que proporciona melhor estabilidade no início da vida e desempenho sputter-through de vida consistente.
Para alvo de tântalo, vamos nos concentrar em oferecer aos nossos clientes com altas purezas que variam de 3N a 5N, tamanho de grão fino e uniforme, a eliminação de textura forte bandas, e alvo cedo estabilidade em tamanho natural.
Impurezas metálicas nossas metas de tântalo »e impurezas gasosas foram medidas por parte das autoridades conhecidos em todo o mundo.
Além disso, nós também oferecemos programa de reciclagem de sucata recuperada alvos.

Aplicação
Apresentando uma excelente resistência à corrosão, resistência a alta temperatura e uma boa biocompatibilidade, alvo de tântalo é usado para muitas aplicações de película fina tal como um material de barreira de difusão, dispositivos de memória, um eléctrodo de porta em dispositivos MOSFET, um revestimento de protecção sobre os dispositivos de cabeça de impressão e de barreira de metal para dispositivo de fiação de cobre.

Composição Química de tântalo Alvo
TaNb20Ta2.5WTa10W
Ppm Química
DescriçãoPrincipal componenteMáximo de impurezas
TaNbFe SiNi WMoTiOCHN
TA1 Restante300403020404020150401520
Ta2 Restante800100100502002005020010015100
TaNb3 Restante100100502002005020010015100
Restante170000- 230000100100502002005020010015100
Restante400503020300006020150501560
Restante4005030201100006020150501560
Pacote e Transporte

Nós embalamos alvo de tântalo em caso de compensados ​​e enviá-los por mar ou ar.

Fundada em 2008, Zhuzhou Tongyi refratário Metal Co., Ltd. é um profissional fabricante e fornecedor de tântalo alvo (alvos de tântalo sputtering) na China. Se este produto que lhe interessa, basta contactar-nos.